磁控溅射镀膜及其应用
溅射原理
溅射原理
1.  先让惰性气体（通常为Ar气）产生辉光放电现象产生带电的离子；
2.  带电离子经电场加速后撞击靶材表面，使靶材原子被轰击而飞出来，同时产生二次电子，再撞击气体原子从而形成更多的带电离子；
3.  靶材原子携带着足夠的动能到达被镀物(基材)的表面进行沉积。
溅射原理
溅射原理示意图
溅射沉积示意图
溅射原理
溅射示意图
直流辉光放电的电压电流密度关系图

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